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微米級3D打印設(shè)備 | 高產(chǎn)3D打印設(shè)備 | 高精度3D打印設(shè)備
光源系列 原位光源PHOTON-40
描述
產(chǎn)品簡介和優(yōu)勢
同步輻射下實現(xiàn)金屬打印真實過程
光源40可在X光場同步輻射下完成金屬打印全過程,配置了完整的打印設(shè)備全套系統(tǒng) (鋪粉系統(tǒng)、刮粉裝置、風(fēng)場、Z軸運動裝置等) ,完成上千層鋪粉,助力研發(fā)人員在真實的金屬打印過程中收集數(shù)據(jù)。
一機多用: 可隨時更換為常規(guī)打印系統(tǒng)
除X光場透射衍射實驗配套打印腔室外,光源40配置了能完成常規(guī)金屬打印的打印腔室,成型空間為∅60xH80mm, 客戶可隨時更換為常規(guī)打印腔室,滿足各種力學(xué)性能試樣及小型部件的打印需求
透射,衍射需求靈活滿足
同步輻射的情況下,光源40配置了靈活的高度調(diào)節(jié)及角度旋轉(zhuǎn)系統(tǒng),可同時滿足透射及衍射實驗需求。
預(yù)熱溫度靈活選擇
常規(guī)打印腔室升級可選:200°C或500°C或1000°C高溫預(yù)熱配置, 可大幅度拓寬材料研發(fā)窗口,滿足更多研發(fā)需求。
工藝參數(shù)打印過程中靈活調(diào)整
通過更開放的工藝參數(shù)系統(tǒng)(自主創(chuàng)建cli文件、輪廓與不同類別填充的掃描參數(shù)及路徑策略 ,激光功率、掃描速度、跳轉(zhuǎn)速度、出光延時、掃描延時、層旋轉(zhuǎn)角度、中心點偏移、鋪粉速度、位移尺度控制、供粉速度等) ,幫助用戶更靈活更深度地研發(fā)及摸索最優(yōu)工藝參數(shù)。
產(chǎn)品參數(shù)
同步輻射下實現(xiàn)金屬打印真實過程
光源40可在X光場同步輻射下完成金屬打印全過程,配置了完整的打印設(shè)備全套系統(tǒng) (鋪粉系統(tǒng)、刮粉裝置、風(fēng)場、Z軸運動裝置等) ,完成上千層鋪粉,助力研發(fā)人員在真實的金屬打印過程中收集數(shù)據(jù)。
一機多用: 可隨時更換為常規(guī)打印系統(tǒng)
除X光場透射衍射實驗配套打印腔室外,光源40配置了能完成常規(guī)金屬打印的打印腔室,成型空間為∅60xH80mm, 客戶可隨時更換為常規(guī)打印腔室,滿足各種力學(xué)性能試樣及小型部件的打印需求
透射,衍射需求靈活滿足
同步輻射的情況下,光源40配置了靈活的高度調(diào)節(jié)及角度旋轉(zhuǎn)系統(tǒng),可同時滿足透射及衍射實驗需求。
預(yù)熱溫度靈活選擇
常規(guī)打印腔室升級可選:200°C或500°C或1000°C高溫預(yù)熱配置, 可大幅度拓寬材料研發(fā)窗口,滿足更多研發(fā)需求。
工藝參數(shù)打印過程中靈活調(diào)整
通過更開放的工藝參數(shù)系統(tǒng)(自主創(chuàng)建cli文件、輪廓與不同類別填充的掃描參數(shù)及路徑策略 ,激光功率、掃描速度、跳轉(zhuǎn)速度、出光延時、掃描延時、層旋轉(zhuǎn)角度、中心點偏移、鋪粉速度、位移尺度控制、供粉速度等) ,幫助用戶更靈活更深度地研發(fā)及摸索最優(yōu)工藝參數(shù)。
產(chǎn)品參數(shù)
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成型空間Building Volume(Ø x H) |
40x2x5mm(同步輻射), ∅60xH80mm(常規(guī)打印)
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| 推薦打印層厚 Powder Layer | 20-120μm |
| 激光器 Laser Type | 100-500W可選 |
| 光斑尺寸 Focus Diameter | 30-80μm可選 |
| 粉末粒度分布 Powder Size Distribution | 15-53μm |
| 預(yù)熱 Preheating | 200°C/500°C/1000°C |
| 保護氣體 Protective Atmosphere | 氬氣Argon |
| 環(huán)境溫度Ambient Temperature | 15-30℃ |
| 設(shè)備尺寸Machine Dimensions (LxWxH) |
≈1600x1000x2000mm
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| 設(shè)備重量Weight | ≈400Kg |
| 電源要求Power Supply | ≥6KW,單相電AC220V士10%,50Hz |
| 可打印材料 | 不銹鋼、模具鋼、鐵基合金、鎳基鈦基、鋁基、鈷鉻、純鎢、鎳鈦記憶合金、貴金屬等 |
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